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陽離子 SiX+(X=F,Cl,S,P,Br)分子光譜和分子特性的理論研究
摘要： 應(yīng)用密度泛函B3LYP方法合并Dunning等人的相關(guān)一致自恰基組d-aug-cc-pVxZ(x=D,T,Q,5,6),研究了陽離子SiX+(X=F,Cl,S,P,Br)的基態(tài)光譜常數(shù)和分子特性.首先對所研究分子進(jìn)行單點能掃描,并將結(jié)果擬合到SPF展式,然后從SPF展式抽取光譜常數(shù).結(jié)果表明,隨著基組的不斷增大,各種光譜常數(shù)很好的自洽收斂.最后,我們將結(jié)果外推到CBS極限,理論計算結(jié)果和已報到的實驗結(jié)果以及其它理論值都非常吻合.其中SiS+,SiP+,SiBr+分子的部分光譜常數(shù)的理論值為首次報道. 作 者： 陳恒杰 程新路 蘇欣紡 李清煥 CHEN Heng-jie CHENG Xin-lu SU Xing-fang LI Qing-huan 作者單位： 四川大學(xué)原子與分子物理研究所,成都,610065 期 刊： 四川大學(xué)學(xué)報（自然科學(xué)版） ISTICPKU Journal： JOURNAL OF SICHUAN UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION) 年，卷(期)： 2007, 44(2) 分類號： X793 關(guān)鍵詞： B3LYP 陽離子 光譜常數(shù) 分子特性【陽離子 SiX+(X=F,Cl,S,P,Br)分子光譜和分子特性的理論研】相關(guān)文章：
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