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應(yīng)用遺傳算法建立云杉針葉表面PCDD/Fs光解半衰期的預(yù)測(cè)模型
采用量子化學(xué)PM3算法計(jì)算PCDD/Fs的量子化學(xué)參數(shù),應(yīng)用遺傳算法(Genetic Algorithm, GA)對(duì)所建模型中的變量進(jìn)行篩選,建立了能預(yù)測(cè)吸附到云杉[Picea abies (L.) Karst.]針葉表面的PCDD/Fs光解半衰期(t1/2)的定量結(jié)構(gòu)-性質(zhì)關(guān)系(QSPR)模型,認(rèn)為影響PCDD/Fs光解速率的主要因素是分子最高占據(jù)軌道能(EHOMO)、前線分子軌道能量差(ELUMO-EHOMO)和平均極化率(α).隨著EHOMO和α的增大;其lg t1/2值增大,PCDD/Fs的lg t1/2值與其(ELUMO-EHOMO)值呈拋物線關(guān)系,當(dāng)ELUMO-EHOMO＝7.847時(shí),lg t1/2有最小值;當(dāng)ELUMO-EHOMO≤7.847時(shí),lg t1/2值隨著ELUMO-EHOMO的增大而減小;當(dāng)ELUMO-EHOMO≥7.847時(shí),lg t1/2值隨著ELUMO-EHOMO的增大而增大.
作 者： 牛軍峰 余剛 韓文亞 NIU Jun-feng YU Gang HAN Wen-ya 作者單位： 清華大學(xué)環(huán)境科學(xué)與工程系持久性有機(jī)污染物研究中心,北京,100084 刊 名： 環(huán)境科學(xué) ISTIC PKU 英文刊名： ENVIRONMENTAL SCIENCE 年，卷(期)： 2005 26(2) 分類號(hào)： X173 關(guān)鍵詞： 遺傳算法 PCDD/Fs 定量結(jié)構(gòu)-性質(zhì)關(guān)系(QSPR) 量子化學(xué)參數(shù)【應(yīng)用遺傳算法建立云杉針葉表面PCDD/Fs光解半衰期的預(yù)測(cè)模型】相關(guān)文章：
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