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β-FeSi2薄膜的結(jié)構(gòu)與光電特性
用磁控濺射法沉積了Fe/Si多層膜和Fe單層膜,在真空和Ar氣中熱退火2 h后制備了β-FeSi2半導體光電薄膜.發(fā)現(xiàn)Fe/Si多層膜在880℃溫度下熱退火后,制備的β-FeSi:薄膜的XRD結(jié)果均呈現(xiàn)β(220)/(202)擇優(yōu)取向,而Fe單層膜制備的β-FeSi2樣品則呈無規(guī)則取向.原子力顯微鏡分析表明,Ar氣退火的樣品表面粗糙度大于真空退火的樣品.根據(jù)光吸收譜測量,Fe/Si多層膜制備的β-FeSi2薄膜的禁帶寬度室溫下為0.88 eV.由Fe/Si多層膜制備的β-FeSi2薄膜具有明顯的光電導效應,這種效應在真空退火樣品中更為顯著,在40W光源照射下,光電導效應大于30%.
作 者: 祝紅芳 SHEN Hong-lie 尹玉剛 LU Lin-feng ZHU Hong-fang SHEN Hong-lie YIN Yu-gang LU Lin-feng 作者單位: 刊 名: 南昌大學學報(理科版) ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年,卷(期): 2008 32(3) 分類號: O484.1 TQ320.72 關(guān)鍵詞: β-FeSi2薄膜 磁控濺射 擇優(yōu)取向 光電導效應【β-FeSi2薄膜的結(jié)構(gòu)與光電特性】相關(guān)文章:
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