pH值對聚四氨基酞菁鈷膜電化學和紫外光譜性質(zhì)的影響

用循環(huán)伏安法在導電玻璃(ITO)和玻碳電極(GC)上制備了聚氨基酞菁鈷(CoTAPc)修飾電極(CoTAPc/GC).探討了pH值對CoTAPc膜的光譜和電化學性質(zhì)的影響,發(fā)現(xiàn)其氧化還原電位與pH值有線性關系,電催化活性也隨酸度的增加而增加.CoTAPc膜的紫外吸收帶變化與溶液pH值及在溶液中浸泡時間有關.

作 者： 武冬梅 郭黎平 杜錫光 叢芳地 崔秀君   作者單位： 東北師范大學化學學院,長春,130024  刊 名： 分析化學  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY  年，卷(期)： 2003 31(8)  分類號： O65  關鍵詞： 四氨基酞菁鈷   電聚合   酸度   循環(huán)伏安法   紫外光譜   化學修飾電極  

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