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高溫漫反射紅外光譜及探針分子識別分子篩中的羥基
采用高溫漫反射紅外光譜法研究分子篩羥基, 考察了溫度、加熱時間對高溫光譜的影響.該方法結合NH3和C5H5N分子探針在298~823K對磷酸硅鋁分子篩SAPO-34中的羥基進行了表征.結果表明, 3612 cm-1和3597 cm-1吸收峰表征的羥基位于SAPO-34分子篩的晶格中, 歸屬于兩種橋聯(lián)羥基(Si-OH-Al).兩種羥基均具有酸性, 在823K時仍然穩(wěn)定.
作 者: 張平 王樂夫 李雪輝 徐建昌 作者單位: 張平(華南理工大學化工系,廣州,510640;廣州大學環(huán)境科學系,廣州,510400)王樂夫,李雪輝,徐建昌(華南理工大學化工系,廣州,510640)
刊 名: 分析化學 ISTIC SCI PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY 年,卷(期): 2002 30(9) 分類號: O6 關鍵詞: 磷酸硅鋁分子篩 羥基,漫反射紅外光譜 高溫光譜 分子探針【高溫漫反射紅外光譜及探針分子識別分子篩中的羥基】相關文章:
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