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氣相沉積制備硬質(zhì)薄膜技術(shù)與應(yīng)用述評(píng)
本文對(duì)氣相沉積技術(shù)的發(fā)展與最新趨勢(shì)給出了述評(píng),重點(diǎn)強(qiáng)調(diào)了等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PCVD)的優(yōu)勢(shì)、進(jìn)展及其在工模具領(lǐng)域的應(yīng)用.
作 者： 馬勝利 徐可為 介萬(wàn)奇 作者單位： 馬勝利(西北工業(yè)大學(xué)金屬凝固技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710072;西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710049)徐可為(西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710049)
介萬(wàn)奇(西北工業(yè)大學(xué)金屬凝固技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710072)
刊 名： 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào) ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年，卷(期)： 2002 22(6) 分類號(hào)： O484 關(guān)鍵詞： 氣相沉積技術(shù) 硬質(zhì)薄膜 PCVD【氣相沉積制備硬質(zhì)薄膜技術(shù)與應(yīng)用述評(píng)】相關(guān)文章：
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