高分子納米復合材料研究進展(I)高分子納米復合材料的制備、表征和應(yīng)用前景

綜述了高分子納米復合材料的發(fā)展研究現(xiàn)狀,將高分子納米復合材料的制備方法分為四大類:納米單元與高分子直接共混(內(nèi)含納米單元的制備及其表面改性方法);在高分子基體中原位生成納米單元;在納米單元存在下單體分子原位聚合生成高分子及納米單元和高分子同時生成.介紹了高分子納米復合材料的表征技術(shù)及其應(yīng)用前景.

作 者： 曾戎 章明秋 曾漢民 Zeng Rong Zhang Mingqiu Zeng Hanmin   作者單位： 中山大學材料科學研究所國家教委聚合物復合材料及功能材料開放研究實驗室,廣州,510275  刊 名： 宇航材料工藝  ISTIC PKU 英文刊名： AEROSPACE MATERIALS & TECHNOLOGY  年，卷(期)： 1999 29(1)  分類號： V4 TB3  關(guān)鍵詞： 高分子納米復合材料   納米單元   制備   表征   應(yīng)用  

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